マルチオフィス特許図面ハブ
USPTO、CNIPA、EPO、JPO、KIPO、PCT/WIPO の特許図面要件を横断的に比較できます。官庁ごとのルール差分、よくあるミス、提出前の作図指針を整理するための中核ページとして使えます。
• 色、グラデーション、柔らかい陰影よりも、白黒の線画を優先する。
• 余白と描画領域を整え、図面の再現性を保つ。
• 関連するすべての視図で参照番号を一貫させる。
• 過密な内容は、追加図に分割して整理する。
• 図面セットを、スタイルが漂う単独ページではなく一つのシステムとして扱う。
1. 次の出願先に合う官庁サマリーを読む。
2. 詳細な作図ルールを確認するために専用ガイドを開く。
3. PatentFig で図面を生成または調整する。
4. 最終出力と提出前に整合性を再確認する。
複数官庁にまたがる特許図面準備でよくある実務質問です。