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JPO 특허 도면 요건 2026: 일본 출원을 위한 완전 가이드
JPO의 도면 규칙, 다면도 일관성, 자주 발생하는 제도 오류. 재작업을 줄이는 일본 출원 가이드. 2026년 판.
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KIPO 특허 도면 요구사항 2026: 한국 출원 체크리스트와 예시
2026년 KIPO 특허 도면 요구사항: A4 설정, 여백, 라벨, 참조 부호, 한국 출원 점검 항목과 예시를 정리했습니다.
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PCT 특허 도면 요건 2026: 국제 출원 가이드
부실한 PCT 도면이 각국 단계에서 3배의 비용을 초래하는 이유. 완전한 PCT 및 WIPO 도면 규칙, 보수적 작성 선택, 재사용 가능한 도면 워크플로. 2026년.
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AI 특허 순서도 생성기: 소프트웨어 아키텍처에서 USPTO 도면까지
소프트웨어 아키텍처를 USPTO 요건에 부합하는 특허 순서도로. 방법 단계, 시스템 다이어그램, 112조 대응을 하나의 워크플로에서 처리.
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디자인 특허 다중 뷰 세트: 단일 참조 이미지로 6개 뷰 생성
단일 제품 이미지로부터 일관된 정투영 특허 뷰를 생성. 수작업 제도를 없애고 6개 뷰의 윤곽 정합을 유지하는 방법. 2026년 가이드.
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채팅 명령으로 특허 도면 정밀 수정: 전체 재생성 없는 외과적 편집
자연어 명령으로 특허 도면을 다듬기. 도면 세트 전체를 재생성하지 않고 특정 요소만 이동, 조정, 편집. PatentFig AI 가이드.